拋光處理的超精密工藝

    目前國內(nèi)外圓精磨，拋光，磨光，精拋光加工主要以砂紙、砂帶、PVA磨料進(jìn)行加工。采用砂紙拋光方式，對拋光人員的拋光技術(shù)要求很高但由于手工拋光和拋光機(jī)械拋光是有一定的局限性，精密研磨拋光的效果也存在很大差異。目前，國外的德國、日本研制成功拋光薄膜的超精拋光系統(tǒng)，使加工產(chǎn)品拋光效果更加精細(xì)一致。

    精密拋光系統(tǒng)，主要采用了涂附磨料的拋光膜持繼以單方向加工，磨削及拋光的接觸面均為未經(jīng)使用的超精度拋光磨料。由于拋光磨料不會重復(fù)使用，避免了一般精拋時所出現(xiàn)的工件首尾拋光效果不一的弊病。拋光薄膜是在厚度為25～l00μm左右的聚脂薄膜基體上用合成樹脂粘結(jié)劑均勻涂附幾十個μm以拋光磨粒的拋光工具。

    日本的研磨薄膜耐熱溫度為使用的高分子粘結(jié)材料的溫度，大約25O℃。研磨時以濕式加工為原則，冷卻液為水、油，一般的水即可滿足要求(如自來水)精密加工時用純水，磨鋁合金時用燈油。

拋光薄膜的要素如下：

1. 涂附

    涂附主要采用靜電法和滾涂法。靜電法時結(jié)合劑為苯酚．基材為聚脂薄膜．磨料為A12O3、SiC。滾涂法主要是借助印刷技術(shù)，磨料與粘結(jié)劑混合滾涂，涂附厚度由滾筒控制，即調(diào)節(jié)輥?zhàn)拥穆勏秮碚{(diào)整。另外還有混煉法、燒結(jié)法、電鍍法、鍍Ni法。

2. 基材

    基材通常采用聚脂薄膜857(PET)，縱橫向抗拉強(qiáng)度大，伸縮性小，強(qiáng)韌厚度均勻、平穩(wěn)。基材的厚度標(biāo)準(zhǔn)為：25、50、75μm。隨著現(xiàn)在自動化的要求，需要較長的薄膜，厚的薄膜不合要求，故又有7、10、12、23、27、30、37μm系列。

3. 結(jié)合劑

    結(jié)合劑是采用高分子樹脂和數(shù)十種化合物添加助劑。常用的有丙烯、環(huán)氧、胺基甲酸乙脂。前兩種種比較硬，后一種較軟。一般要求在薄膜上進(jìn)行兩次涂附，第一次涂附是增加薄膜的附著力。

4. 拋光磨料

    拋光磨料在日本主要使用Al2O3、SiC，還有Cr2O3、CeO2、人造金剛石單晶、FeO、多晶等。拋光磨料細(xì)度要細(xì)膩且要分布均勻，這就要求嚴(yán)格控制粒度分布，不能有大粒。精密研磨產(chǎn)生有四種拋光磨粒：Al2O3、人造盒剛石、SiC、CBN。所有拋光磨粒均經(jīng)精細(xì)篩選，使用時不會有粗糙花紋，其產(chǎn)品具有防水性能，干式或濕式均可。

 使用拋光薄膜拋光工藝將是以后拋光精加工的發(fā)展趨勢，它比砂帶拋光工藝更先進(jìn)。可提高生產(chǎn)能力及效率，合格率高、質(zhì)量好，拓寬生產(chǎn)范圍，對整個拋光工序可準(zhǔn)確控制，將來精拋光行業(yè)將是拋光薄膜的天下。

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